11 bahan aktif utama agen anti jamur kulit

Agen anti-jamur paling awal untuk kulit adalah p-nitrofenol yang digunakan pada tahun 1934, dan kemudian -naftol, p-kloro-m-xylenol, salisilanilin dan tetraklorofenol digunakan. Saat ini, ada jenis bahan anti jamur untuk kulit berikut ini:

(1) Senyawa anorganik: asam hipoklorat dan garamnya, natrium klorit, kalium permanganat, iodida, asam borat dan garamnya, sulfit dan pirosulfit, dll. Saat ini, senyawa ini terutama digunakan sebagai komponen tambahan dari produk agen anti jamur.

(2) Fenol organik dan fenol terhalogenasi: fenol terutama meliputi kresol, fenol, tar fenol, benzil fenol, etil naftol, aminofenol dan sebagainya. Fenol terhalogenasi terutama meliputi klorofenol, diklorofenol, bromofenol, p-kloro-m-xilenol, 2-metilena diklorofenol dan sebagainya. Senyawa ini adalah bahan anti jamur yang paling umum digunakan di masa lalu, namun dengan peraturan lingkungan yang semakin ketat, penggunaan bahan anti jamur ini telah dibatasi dan secara bertahap digantikan oleh jenis senyawa lain.

(3) Alkohol: benzil alkohol, etanol, nitroalkanol terhalogenasi, dan sebagainya. Saat ini, senyawa ini terutama digunakan sebagai komponen tambahan produk agen anti jamur.

(4) aldehida: formaldehida, glutaraldehida, p-nitrobenzaldehida, cinnamaldehyde terhalogenasi, furaldehyde dan sebagainya. Saat ini, karena persyaratan yang ketat untuk kandungan formaldehida pada kulit, prospek aplikasi senyawa ini sebagai bahan antijamur kulit tidak terlalu baik.

(5) Asam organik: asam sorbat dan garamnya, asam benzoat dan garamnya, asam kloroasetat, asam fenoksi asetat terhalogenasi, asam alkil tiosianat, asam halosalicylic, asam thiosalicylic, dll. Sifat anti jamur dari senyawa ini sangat dipengaruhi oleh nilai pH, dan umumnya hanya cocok untuk digunakan dalam kondisi asam, dan efek penghambatannya pada jamur tidak terlalu kuat. Saat ini, mereka terutama dicampur dengan jenis senyawa lain, atau digunakan sebagai komponen sinergis tambahan.

(6) Ester: salisilat hidroksibenzoat terhalogenasi, vinil fenil ester terhalogenasi, benzil asetat terhalogenasi, pentaklorofenil dodesil ester, ester karboksilat tak jenuh, dll. Toksisitas senyawa ini relatif rendah, terutama efek ester asam karboksilat tak jenuh pada cetakan lebih baik, jadi ini adalah sejenis agen anti jamur dengan potensi pengembangan.

(7) amida: asetamida terhalogenasi, salisilanilin, aminobenzenasulfonamida, tetraklor m-ftalonitrile. Senyawa semacam ini adalah salah satu komponen efektif agen anti jamur yang umum digunakan saat ini, dan efek anti jamurnya lebih baik.

(8) Senyawa garam amonium kuarter: dodesil benzil dimetil amonium klorida (geramine), dodesil benzil dimetil amonium bromida (bromogeramine), alkilpiridin hidroklorida, setiltrimetil amonium bromida (1631), dll. Karena toksisitasnya yang rendah, spektrum sterilisasi yang luas dan efisiensi yang tinggi , senyawa ini telah banyak digunakan dalam sterilisasi dan desinfeksi instrumen bedah dan medis, sterilisasi dan desinfeksi alga pada pengolahan air sirkulasi industri, pengolahan air ladang minyak, antiseptik industri konstruksi, desinfektan pertanian, kehutanan dan serikultur, pencucian dan desinfeksi rumah tangga dan kesehatan masyarakat, dll. Dalam industri kulit, senyawa garam amonium kuaterner umumnya digunakan sebagai pengawet kulit, tetapi hanya sedikit yang digunakan sebagai agen antijamur kulit. Saat ini, pengembangan komponen pembasmi kuman garam amonium kuaterner baru untuk anti jamur kulit juga menjadi arah penelitian.

(9) senyawa heterosiklik: benzimidazole, benzothiazole, mercaptobenzimidazole dan garamnya, hexahydrotrihydroxyethyl isotriazine, nitropyridine, 8-hydroxyquinoline dan garamnya, benzoisothiazolone, dimethylthiadiazine, dll. Saat ini, sebagian besar bahan antijamur kulit mengambil senyawa heterosiklik sebagai bahan yang efektif, yang memiliki toksisitas rendah, spektrum sterilisasi yang luas dan efek anti jamur yang baik. Diperkirakan kelompok baru senyawa heterosiklik akan dikembangkan dalam waktu yang lama di masa depan. Ini masih menjadi arah utama pengembangan agen anti-jamur kulit.

(10) Senyawa sulfur organik: bis (trichloromethyl sulfone), allicin, dibenzoyl disulfide, halogen pyridine methyl sulfide, mercapto pyridine, pentachlorothiophenol, dll. Misalnya, 2-(thiocyanomethylthio) benzothiazole (TCMTB) sering diklasifikasikan sebagai organik senyawa belerang.

(11) Bahan nano anorganik: nano-TiO2, nano-SiO2, nano-ZnO, dll. Saat ini, pengembangan bahan nano anorganik merupakan hot spot dalam pengembangan agen antibakteri dan antijamur kulit, tetapi kebanyakan dari mereka masih dalam tahap awal, dan penggunaan agen antijamur nano-kulit yang sebenarnya belum dilaporkan.